Полевой эмиссионный электронный микроскоп JEM-2200FS Jeol
Современный аналитический электронный микроскоп JEM-2200FS оснащен полевой эмиссионной пушкой (FEG) напряжением 200 кВ и встроенным энергетическим фильтром (Omega-фильтр), который обеспечивает получение изображений с нулевыми потерями, устраняя неупругие электроны, что приводит к четким изображениям с высокой контрастностью. Изображения, отфильтрованные по энергии, формируемые электронами с низкими потерями или потерями в сердечнике, предоставляют информацию о химическом состоянии или элементном составе образца. Также доступна спектроскопия для элементного и химического анализа образцов.
Внутриколонный энергетический фильтр (фильтр Омега)
Фильтр энергии, встроенный в колонку, позволяет получать изображения с энергетической фильтрацией и спектры потерь энергии электронов. Оптимально спроектированный фильтр обеспечивает получение изображений без искажений.
Система управления
Основные компоненты JEM-2200FS, такие как оптическая система, гониометрический столик и система эвакуации, полностью управляются с помощью ПК. Эта система обеспечивает стабильно высокое качество данных.
Система визуализации
Новая система визуализации, состоящая из четырехступенчатых промежуточных линз и двухступенчатых проекционных линз, позволяет получать энергетически отфильтрованные просвечивающие изображения без вращения и дифракционные картины в широком диапазоне увеличений и длин камеры.
Пьезоуправляемый гониометр
Новый предметный столик гониометра, оснащенный пьезоэлектрическим устройством, обеспечивает плавную работу при поиске полей зрения на атомном уровне.
Интеграция с другими инструментами
Микроскоп полностью управляется с ПК. Конструктивная концепция позволяет интегрировать систему EDS и ПЗС-камеры.
Характеристики
| Конфигурация ?1 |
Сверхвысокое разрешение(UHR) |
Высокое разрешение(HR) |
Высокий наклон образца(HT) |
Крио(CR) |
Высокая контрастность(HC) |
| Разрешение |
| Точечная?решетка |
0,19 нм0,1 нм |
0,23 нм0,1 нм |
0,25 нм0,1 нм |
0,27 нм0,14 нм |
0,31 нм0,14 нм |
| Энергетическое разрешение |
0,8 эВ (полная ширина на полувысоте с нулевыми потерями) |
| Точное напряжение |
160 кВ?200 кВ ?2 |
| Минимальный размер шага?Энергетический сдвиг |
50 В,максимум 3000 В (с шагом 0,2 В) |
| Источник электронов |
| Эмиттер |
ZrO/W(100) Шоттки |
| Яркость |
?4×10 8 А/см 2 ? ср |
| Вакуум |
×10 -8 Па порядка |
| Ток зонда |
0,5 нА при зонде 1 нм |
| Стабильность мощности |
| Соответствующее напряжение |
?1×10 -6?мин |
| ток OL |
?1×10 -6?мин |
| Фильтр тока |
?1×10 -6?мин |
| Объективная линза |
| Фокусное расстояние |
1,9 мм |
2,3 мм |
2,7 мм |
2,8 мм |
3,9 мм |
| Сферическая?аберрация |
0,5 мм |
1,0 мм |
1,4 мм |
2,0 мм |
3,3 мм |
| Хроматическая?аберрация |
1,1 мм |
1,4 мм |
1,8 мм |
2,1 мм |
3,0 мм |
| Минимальный шаг |
1,0 нм |
1,4 нм |
1,8 нм |
2,0 нм |
5,2 нм |
| Размер пятна (диаметр) |
| режим ТЕМ |
от 2 до 5 нм |
от ? до 30 нм |
| режим ЭДС |
0,5–2,4 нм |
1,0–2,4 нм |
– |
4–20 нм |
| режим NBD |
– |
– |
| режим КБД |
1,0–2,4 нм |
– |
| CB Дифракция |
| Угол схождения? (2α) |
от 1,5 до 20 мрад и более |
– |
| Угол приема |
±10 ° |
– |
| Увеличение |
| режим MAG |
×2000–1500000 |
×2000–1200000 |
×1500–1000000 |
×1200–600 000 |
| Режим LOW MAG |
×50 до 1500 |
| Режим SA MAG |
×10 000–800 000 |
×8000–600000 |
×8000–500000 |
×5000–400000 |
| Размер поля зрения для изображения, выбранного по энергии |
Диаметр 80 мм на конечной плоскости изображения (пленка) при выборе 10 эВДиаметр 25 мм на конечной плоскости изображения (пленка) при выборе 2 эВ |
| Длина камеры |